Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер "Mozilla Firefox" |
|
|
Повнотекстовий пошук
Пошуковий запит: (<.>A=Dranchuk M$<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 3
Представлено документи з 1 до 3
|
1. |
Dranchuk M. V. Effect of substrate temperature on structural, optical and electrical properties of al-doped zinc oxide thin films deposited by layer-by-layer method at magnetron sputtering [Електронний ресурс] / M. V. Dranchuk, A. I. Ievtushenko, V. A. Karpyna, O. S. Lytvyn, V. R. Romanyuk, V. M. Tkach, V. A. Baturin, O. Y. Karpenko, V. M. Kuznetsov, V. I. Popovych // Сенсорна електроніка і мікросистемні технології. - 2015. - Т. 12, № 1. - С. 5-12. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/seimt_2015_12_1_3 Легированные алюминием тонкие пленки ZnO (AZO) выращены на кремниевых и стеклянных подложках с помощью метода послойного роста в магнетронном распылении при разной температуре подложки. Анализ с помощью атомно-силовой микроскопии показал, что пленки AZO являются очень гладкими со средним значением среднеквадратичной шероховатости 2,3 нм. В результате проведения энерго-дисперсионного рентгеновского анализа установлено, что содержание алюминия в пленках AZO составляет примерно 1 ат. %. Рентгеновские исследования показали, что все легированные алюминием пленки ZnO является поликристаллическими с гексагональной структурой вюрцита с осью с ориентированной перпендикулярно плоскости пленки (002). Оптические измерения показали, что все только выращенные пленки имеют высокую прозрачность (84 %) в видимой области спектра и имеют энергетическую щель 3,34 - 3,41 эВ, что свидетельствует о их хорошем оптическом качестве. Наименьшее значение сопротивления составило <$E1,7~cdot~10 sup -2 ~roman {Ом~cdot~см}> для пленки AZO, выращенной при температуре подложки <$E350~symbol Р roman C>.
| 2. |
Myroniuk D. V. Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering [Електронний ресурс] / D. V. Myroniuk, A. I. Ievtushenko, G. V. Lashkarev, V. T. Maslyuk, I. I. Timofeeva, V. A. Baturin, O. Y. Karpenko, V. M. Kuznetsov, M. V. Dranchuk // Semiconductor physics quantum electronics & optoelectronics. - 2015. - Vol. 18, № 3. - С. 286-291. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MSMW_2015_18_3_10 Transparent conductive oxide thin films of Al-doped ZnO grown by rf magnetron sputtering were irradiated with high energy electrons with the energy 12,6 MeV and fluence <$E5~cdot~10 sup 14> e/cm<^>2. The films were produced using different sputtering powers. It has been shown that electron irradiation creates defects that lead to distortions of the crystal lattice, which results in reduced crystallinity of the films. Also, it leads to film heating that results in radiation annealing and relaxation of the lattice.
| 3. |
Popovych V. I. Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering [Електронний ресурс] / V. I. Popovych, A. I. Ievtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romanjuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, O. Y. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. G. Dushejko, V. A. Karpyna, G. V. Lashkarov // Ukrainian journal of physics. - 2016. - Vol. 61, № 4. - С. 325-330. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2016_61_4_7
|
|
|